超純水と純水の比較：プロセス、仕様、最適な使用方法

10月 23, 2025

スタークウォータープロセスエンジニアリングチームによるレビュー - 最終更新日：20 Oct 2025

超純水と純水の比較： どちらも精製されたものだが、品質目標も使用例も異なる。純水一般的には、ROグレードの工業用水または飲料用純水（≒0.1～10 µS/cm）を指す。 超純水（UPW） は、最も厳しいイオン性、TOC、粒子状物質、および微生物制限のために設計されています。 ≥15-18MΩ・cm 25℃、UVおよび最終0.2 µm濾過。以下の表とフローは、適切なトレインの選択、主要要素のサイズ決定、一般的な落とし穴の回避に役立ちます。

スナップショット比較：超純水と純水の比較

パラメータ	純水（工業用）	超純水（UPW）	備考
代表的な導電率／抵抗率	~0.1～10μS/cm（0.1～10MΩ・cm^-1 同等)	0.067～0.055μS/cm（15～18MΩ・cm）	25℃で報告。CO₂は抵抗率を低下させる。
コアプロセス	前処理→1/2パスRO→貯留/ループ→オプション研磨（IX/EDI）→0.2μm	前処理 → RO EDIまたは混合ベッド → UV (185/254) → 0.2 µm → 衛生的ループ	2パスROと脱ガスは、シリカ/ホウ素/CO₂の制御に役立つ。
マイクロ/TOCコントロール	プロセスに応じて、遊離塩素またはUV、0.2 µm	UV（185/254）、低TOC材料、サニタリー設計	衛生的な316LループとUPW用の有効な除菌。
代表的な用途	ボイラーメイク、食品・飲料、一般産業、飲料水研磨	半導体、電池工場、精密光学、研究所（DI/UPW）	UPWは最も厳しいイオン／有機／微生物仕様に対応しています。
設備投資 / 設備投資	研磨工程が少ない	より高い；研磨、UV、衛生的なループ	EDIは、IX再生に対する化学薬品の取り扱いを低減する。

産業界における「純水」の意味

普通列車

ROベース： マルチメディア → カーボン → ソフトニング／アンチスカルファント → カートリッジ RO（1/2パス） → 収納＆ループ → オプション IX/EDI 研磨→0.2μmエンドフィルター。
IXベース： 前処理→陽イオン／陰イオン床→混合床→マイクロフィルター（低シリカ／ホウ素とCO₂が管理可能な場合に使用）。

品質範囲

一般工業用：1-10 µS/cm；高純度/ボイラー：0.1-1.0 µS/cm。
プロセス（飲料／バイオバーデンなど）および材料適合性ごとのマイクロコントロール。

超純水（UPW）システムとは？

受け入れとモニタリング

オンライン 抵抗率 ≥15-18 MΩ-cm低TOC、低シリカ/ホウ素で指定されている。
検証済みのサニタイズ、衛生的な316Lループ、ドレインへの傾斜、HEPA/UVベントタンク。

それぞれの適合性

超純水： 半導体/FPD、電池製造、精密光学、PCB製造、ハイエンドラボ/分析。
純粋な水： 発電所メイクアップ、一般産業用リンス、食品・飲料用ポリッシング、製薬用前処理、飲料用ポリッシング。

選択ガイド：超純水と純水の選択

品質目標を定める。 ボイラーや工業用リンスで≈0.1-1.0 µS/cmが必要な場合は、通常、純水（RO±EDI/IX）で十分です。15～18MΩ・cm以上でTOC/microが厳しい場合は、UPWをお選びください。
相性をチェックする 高CO₂またはシリカ/ホウ素？pHシフト/脱ガスを伴う2パスROを使用し、その後EDIまたは混合床を使用する。
政策と人員配置 好む 電子データ交換 化学物質の量を減らし、O&Mを簡素化する。 ミックスベッド 深いイオン研磨と再生ロジスティクスが受け入れられるところ。
アップタイムとコスト。 EDIは低薬液曝露で連続運転が可能であり、IXは再生計画で堅牢なポリッシュを提供する。

デザイン＆サイズクイック・ノート

前処理： マルチメディア → カーボン → 軟化剤・消石灰 → 5μmカートリッジ；鉄・マンガンと塩素を管理する。
舞台間のコンディショニング： ROのシリカ/ホウ素除去率を上げるためのpH調整および/または脱ガス。
材料と衛生： SS316L、隙間のない接続、不動態化処理、ループ速度0.9～1.5 m/s、0.2 µmエンドフィルター、有効な消毒。
計装： フィード/透過液/濃縮液の圧力、ΔP、流量、導電率/抵抗率、TOC（UPW）、シリカ、ORP（消毒）、温度。

オペレーション＆メンテナンス

ROだ： ΔP/流量のトリガーでCIP；SDIとバイオファウリングを追跡；良好な前処理で典型的な寿命は3～5年以上。
EDI： トレンド電流/電圧; OEMによる定期的なクリーニング; 最小限の再生剤。
IX/ミックスベッド 酸/苛性再生の窓、中和、安全性を計画し、シリカとナトリウムの漏れを監視する。
UV＆ファイナルフィルター： 時間/出力でランプを交換する。0.2 µmエンドフィルターの完全性をテストする。
ドキュメンテーション ログフロー/圧力、CIP日付、消毒記録、受入テスト。

コンプライアンス

ASTM D1193 (試薬水のグレード）。
水質協会（WQA）リソースがある。
ISPE 医薬用水システムのためのガイダンス。

よくある質問：超純水と純水の比較

超純水はROだけで十分ですか？

いや、超純水には研磨-通常、EDIまたは混床にUVを加え、最終的に0.2μmのろ過を行うことで、イオン性、TOC、微生物の規制値を満たす。

超純水はEDIか混合床か？

電子データ交換 大量の再生化学薬品が不要になり、連続運転が可能になる。 ミックスベッド 再生プランニングに深い磨きをかける。化学的方針、稼働時間、人員配置に基づいて選択する。

なぜ溶存CO₂がそれほど重要なのか？

CO₂は抵抗率を低下させ、陰イオン容量を消費する。pH制御および/または脱ガスを伴う2パスROは、下流のEDI/IX性能を向上させる。

低シリカを達成するには？

pHシフトおよび/または脱ガスを伴う2パスROを使用し、続いてEDIまたは混合床を使用する。ホウ素を考慮したROと厳密な段間制御を検討する。

純水」対「UPW」の現実的な目標は？

純水は一般的に以下の範囲にある。 0.1-1.0 µS/cm (高純度工業用）～1～10 µS/cm（一般）。UPWの受け入れは通常 ≥15-18MΩ・cm 低TOCで、衛生面も確認されている。

次のステップ（RFQと内部リンク）

RO透過液分析と需要曲線をお知らせください。研磨経路、タンク容量、ループ油圧のサイズを決定し、衛生的なステンレス製パッケージをご提案します。

著者スタークウォータープロセスエンジニアリングチーム - RO、EDI/IX、UPWループ、衛生ステンレスシステムの工業用水処理のスペシャリスト。

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